I    加入收藏    I   
021-5920920

上海昊琳化工有限公司

Shang Hai Hao Lin Hua Gong

碱性化学镀镍

  • 订货 ?
起批量 ≥1
价格
手机专享
手机下单更便宜
物流

上海

出货周期 ?
数量(桶) 2-1000
预计时间(天) 7
支付方式

申请已发出!

      已选0/0.00

      产地 中国 是否进口 种类 合金镀助剂
      货号 175 型号 HL EN 175 类别 化学镀
      执行标准 ROHS 主要用途 碱性化学镀镍 品牌 昊琳

      HL EN 175   碱性化学镍

      HL EN 175是一种化学闪镀镍溶液,用于铝合金上化学镍或电镀前的处理。这种碱性化学镍工艺镀出一层非常薄、均匀、活跃的镍镀层。然后可进行结合力好的化学镍或化学镀铜和光亮镍电镀。

      作为 Enthone双层阻挡层体系的一部分,HL EN 175工艺是在化学镀镍前在铝合金上镀锌和镍双层阻挡层的两步工艺的第二部分。第一步是用Alumon?工艺在干净的去氧化的铝表面上镀一层锌。这层锌防止铝再次氧化,这样可使最后的镀层具有良好的结合力。

      HL EN 175是专门为去除铝上少量锌而配制,这个只有一薄层锌阻挡层的铝合金可防止再次氧化。

      在电镀中 HL EN 175也可用以代替铝材上镀氰化闪镀铜。在电镀工艺中它减少对氰的需要,并明显提高闪镀层的覆盖力,即使是在复杂形状的零件上。

      HL EN 175稳定剂是 HL EN 175铝材用化学镍阻挡层的添加剂。

      HL EN 175稳定剂是用在要求更高稳定性工作液,尤其是当不规则使用HL EN 175工作液时,HL EN 175稳定剂将有助于防止金属析出和自发分解。HL EN 175稳定剂不应与标准酸性化学镍溶液使用

      HL EN 175以三种浓缩液体供应:HL EN 175AHL EN 175C用作开缸;HL EN 175B HL EN 175C一起用作补充。当工作液不规则使用时可用 HL EN 175稳定剂

       

      一、开缸

                          开缸添加

      HL EN 175A                             150 ml/ L

      HL EN 175B                              -

      HL EN 175C                            70 ml/ L

      HL EN 175稳定剂*                    2.0 ml/ L

      去离子水或蒸馏水                     780 ml/ L

      *按情况而定

       

      开缸步骤

      用去离子水或蒸馏水彻底清洗槽;

      槽内部分加入去离子水或蒸馏水;

      加入所需要的 HL EN 175AHL EN 175C如果需要,边用机械搅拌边加入HL EN 175稳定剂。用去离子水或蒸馏水加至所需容量;

      溶液加热至 38-41℃(高于43℃时金属析出会发生)检查溶液pH值,如果需要,用稀释的氨水 50% 10%V/V硫酸调整

      二、操作

      范围                最佳

      温度35-43         38

      PH9.6-11.5             10.0(最低9.6

      镍含量g/l4.9-6.05.8

      浸入时间分钟3-53(最少)

      将需要进行化学镀镍的零件浸入到HL EN 175溶液中 3-5分钟以获得所需的化学镍厚度, 最少浸入3分钟以防止覆盖不完全或镀层起泡。

       在继续电镀前要求水洗

       

       

      上海昊琳化工有限公司

      Shanghai Haolin Chemical Co.,Ltd

      搅拌

      建议悬挂搅拌(垂直搅拌最有效),空气搅拌仅用在通风良好的地方;

      温度

      最佳操作温度是35℃,此温度有助于去除氨气。由于可能产生镍析出的问题,溶液温度不应超过43℃,不操作时,溶液温度不要保持在操作温度这将减少氨水的消耗

      通风

      需要通风以去除氨气和由于搅拌或溶液生成的气体引起的镍雾,不操作或降温时,溶液应加盖;

      过滤

      5μm 过滤介质连续过滤,最好是漂流滤袋型系统。如果不能连续过滤,操作结束后溶液必须冷却,然后在下次操作前,用3μm的过滤介质进行间歇过滤;

      就算使用连续过滤,槽和过滤设备要求用30%硝酸定期清洗,然后水洗,最后用含有少量氨水或碳酸钾的去离子水或蒸馏水进行水洗。

      pH

      pH值必须保持在 9.6以上以防止镀层发黑,低于9.6溶液将混浊,镀层特性将发生改变。升高 pH值可加入稀释的氨水 (50%)降低 pH加入 10%v/v

      硫酸.慢慢加入并不断搅拌.

      三、溶液补充

      溶液补充以溶液的活化镍百分率为基础。分析镍及次亚磷酸盐的含量可用以确定 HL EN 175B HL EN 175C的补充量。如果用 HL EN 175稳定剂,每补充 1 HL EN 175B需补加 100mL HL EN 175稳定剂。

      一个完整的金属循环是每升工作液镀出 5.8g的镍金属 ,一个金属循环要求每升工作液补充HL EN 175BHL EN 175C溶液各 0.078

       

      %镍活化剂        /         HL EN 175Bml/l)        HL EN 175Cml/l

      1005.8--

      955.54.04.0

      905.27.87.8

      854.912.512.5

      804.715.615.6

      754.419.519.5

      *为保持最佳电镀速率和简化添加,建议镍金属含量不低于 4.9g/L

      *为获最佳挂镀或挂镀与滚镀混合效果 溶液应按以上所述均等的补加HL EN 175B HL EN 175C

      *补充时应配有搅拌

      补充

      根据分析结果 按表补充 HL EN 175B HL EN 175C如果用HL EN 175稳定剂,每补充 1HL EN 175B需补加 100mLHL EN 175稳定剂。

       

      四、设备

      衬聚乙烯或聚乙烯化合物的槽或聚乙烯或聚丙烯槽可用来盛载HL EN 175工作液。可用石英浸入式加热器加热,当用浸入式加热器时,必须用机械搅拌或空气搅拌溶液以防止局部过热

      Vanton不封闭 Serfilco Sethco不封闭磁性泵适用于 HL EN 175溶液。建议用有机玻璃或聚丙烯过滤箱和聚丙烯芯过滤器和 1-5微米密度的聚丙烯纤维。用以生产过滤芯的某些润滑剂对HL EN 175溶液有害,所以,过滤芯在使用前必须用热水清洗,安装滤芯在过滤泵内,直接用热水冲冼,直到软管无泡沫。建议用 5微米聚丙烯袋型过滤器。

      上海昊琳化工有限公司

      Shanghai Haolin Chemical Co.,Ltd

      五、废水处理

      HL EN 175工作液是含镍碱性溶液,未稀释HL EN 175稳定剂呈酸性,处理废液时先去除镍, 再调pH值至规定范围内。

       

      镍和次磷酸的分析和补充

      1.分析镍金属

      设备

      5mL移液管50mL滴定管 带有 0.1mL刻度250mL锥形瓶

       

      试剂

      0.0575M EDTA溶液               溶解 21.4g EDTA Na2 6.0g分析纯的氢氧

      化钠于去离子水或蒸馏水中 冷却,并用一容量瓶,

      去离子水或蒸馏水稀释至 1

       

      紫尿酸铵指示剂 100g的氯化钠混合 0.2g的紫尿酸铵(酸性紫尿酸铵)用杵和臼一起磨

       

      分析纯氨水                         购买

       

      步骤

      1.用移液管取 5mL的试样注入锥形瓶中;

      2.加入约 50mL的去离子水或蒸馏水,10mL分析纯氨水,1-2g的紫尿酸铵指示剂,只加入紫尿酸铵指示剂以获得淡黄色;

      3. EDTA标准溶液滴定至蓝紫色终点。

      计算

      mL滴定的 EDTA* 0.675 = g/L镍金属

      补充

      镍金属含量应保持在 5.25-6g/L平均范围内,每补充 1g/L镍金属需加 13mL/LHL EN 175B 13mL/L HL EN 175C检查溶液pH值,如果需要,进行调整。

      先分析镍金属,在分析次磷酸之前适量添加HL EN 175BHL EN 175C如果需要添加次磷酸,需分次少量添加,而不是一次加入。

       

      2.分析次磷酸

      一般来说,基于镍金属分析而补加HL EN 175C将保持还原剂浓度在最佳值,然而,还原剂的消耗并不是一样的;所以,建议间断分析以保证还原剂的浓度在25-30g/L如果不在建议范围内,用HL EN 175C按下述补加:

      设备

      250mL碘量瓶5mL移液管50mL移液管5mL滴管25mL刻度移液管

      50mL滴定管

      试剂

      0.10N碘酸钾(KIO3)溶液6N分析纯盐酸(HCl)0.10N硫代硫酸钠(Na2S2O3)

      碘化钾(KI)结晶

       

      步骤

      1.用移液管取 5mL溶液试样注入 250mL碘量瓶中,加上瓶盖;

      2.加入 25mL 6N HCl利用它水冲洗瓶颈;

      3.用移液管移取 50mL 0.1N KIO3溶液入瓶中,加入 1g KI结晶;

      上海昊琳化工有限公司

      Shanghai Haolin Chemical Co.,Ltd

       

      4. 3-5mL 6N HCl冲洗瓶颈;

      5.盖上瓶盖,放在阴凉处 30分钟整;

      6.用少量去离子水冲洗瓶塞和瓶颈;

      7.立即用 0.1N Na2S2O3滴定,颜色由棕色变至无色.

       

      计算 (每升工作液含还原剂量)

      10.60* [(mL KIO3)* (N KIO3)- (mL Na2S2O3)* (N Na2S2O3)] = g/L

      补充

      还原剂应保持在 25-30g/L低于最佳范围,每 1.0g/L加入 2.6mL/LHL EN 175C

       

      HL EN 175 补充表

       

      滴定的 0.0575M EDTA         添加(ml/L)                  说明

          (mLs)           175B        175C      Ni浓度(ml/L)   %活化剂

       

      8.5--         --5.8       100.0

      9.32.3        2.35.697.5

      8.13.9        3.95.595.0

      7.96.3        6.35.392.5

      7.77.8        7.85.290.0

      7.510.2       10.25.187.5

      7.212.5       12.54.985.0

      7.014.0       14.04.782.5

      6.915.6       15.64.680.0

      6.717.2       17.24.577.5

      6.419.5       19.54.375.0

      6.221.1       21.14.272.5

      6.023.4       23.44.170.0

       

       

       

       

       

       

      特别声明

       

      此说明书内所有提议或关于本公司产品的建议,是以本公司信赖的实验及资料为基础。 因不能控制其他从业者的实际操作,故本公司不能保证及负责任何不良后果。此说明书内的所有资料也不能用为侵犯版权的证据。

       

       

       

      导购推荐

      成交记录

      评价

      订购说明

      买家还在看

      联系我们

      手机:138507xxxxx

      总机:0595-23868xxx

      电话:0595-23868xxx

      邮编:362100

      网址:

      地址:广西壮族自治区北流市

      产品名
      价格